薄膜技術的種類很多，工藝方法主要有化學氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD），過去主要用于制備功能材料，近來引入模具制造業，以提高模具壽命。

1）化學氣相沉積工藝

化學氣相沉積（CVD）工藝是通過高溫氣相反應使被沉積元素蒸發，并在模具模膛表面沉積一層薄膜的方法。CVD工藝方法可以制備任何金屬和非金屬的薄膜，但缺點是要在800℃～1200℃的高溫下進行反應沉積。新開發的等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）和等離子輔助化學氣相沉積（PACVD）可以使反應沉積溫度降低至400℃～800℃，但這個溫度對于處理模具模膛表面仍然是偏高，目前在強化模具中應用較少。

2）物理氣相沉積工藝

物理氣相沉積（PVC）工藝包括蒸鍍、離子鍍和濺射三類，每一類又包括若干種工藝方法。PVD工藝不僅可以十分方便地沉積CVD工藝所能夠沉積的各咱薄膜，而且，PVD具有比CVD更適用于模具模膛鍍（涂）膜的兩個突出特點：

（1）PVD可以在模具鋼回火溫度以下的200℃～400℃沉積薄膜，而CVD則需要在模具鋼回火溫度以上（800℃～1200℃）的高溫下沉積薄膜；

（2）PVD沉積速度高達4um/h～50um/h，而CVD的沉積速度只有1um/h～2um/h。

PVD沉積薄膜在模具模膛中的應用潛力極大，前景廣闊。采用不同工藝條件的活性化學反應離子鍍（ARE-PVD）可以獲得具有不同硬度和耐磨性的TiC和TiN耐磨薄膜。例如，采用ARE-PVD工藝，在150℃的低溫和從5.5×10^-3Pa～3×10^-3Pa的不同壓力條件下，處理30min～40min獲得TiC薄膜的硬度可以達到1050HV～1450HV；再如，采用ARE-PVD工藝，在150℃的低溫和從7.5×10^-2Pa～3×10^-1Pa的壓力條件下，處理30min～40min獲得TiN薄膜的硬度可以達到690HV～2800HV。這些硬度值之高，都已超出布氏硬度和洛氏硬度的測量范圍。