由于化學氣相沉積溫度高，反應氣中有氫氣，不僅有氫脆現象，如果操作不當，還會導致爆炸，廢氣中含HCl，造成公害。為解決此缺陷，發展了物理氣相沉積法。它與化學氣相沉積相比，具有沉積溫度低（常在550℃以下）、沉積速度快、沉積層的成分和結構可以控制、無公害等優點。

物理氣相沉積包括真空蒸鍍、真空濺射鍍、離子鍍、離子注入等，見表13-5。各種離子鍍原理如圖13-5所示。